细粉加工设备(20-400目)
我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备,拥有多项国家专利,能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目,是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。
超细粉加工设备(400-3250目)
LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术,专注于400-3250目范围内超细粉磨加工,细度可调可控,突破超细粉加工产能瓶颈,是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。
粗粉加工设备(0-3MM)
兼具磨粉机和破碎机性能优势,产量高、破碎比大、成品率高,在粗粉加工方面成绩斐然。
硅石灰研磨机械厂家


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硅粉加工工艺与硅粉研磨设备的选择
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晶圆切割环节日本DISCO和国产刀的差别在哪里? 知乎
Web1968 年 12 月,发布了镶嵌钻石的超薄切割磨石“Micron Cut”。 Disco 源自旧公司名称 DaiIchi Seitosyo CO 的英文缩写。 全球占有率最高的精密加工设备制造商。 该公司的技术和产品用于制造安装在智能、IC卡、汽车和飞机等熟悉产品中的尖端设备。 (阿波罗 WebApr 21, 2021 研磨液、研磨垫、钻石碟 3M、AGC 、Cabot Microelectronics 、DuPont 、Fujibo、Fujififilm Electronic Materials、Fujimi这七家厂商为全球主要的化学机械研磨材料供应商。 3M、DuPont、Fujififilm Electronic Materials前文已提到。 AGC 主要生产用于浮法平板玻璃,汽车玻璃,车载显示器盖板玻璃,用于电子设备的超薄钠钙玻璃,ETFE树脂( 半导体材料供应商不完全盘点 知乎

半导体材料之CMP抛光液 知乎
WebCMP 全称为 Chemical Mechanical Polishing,即化学机械抛光。CMP技术是晶圆制造的必须流程之一,对高精度、高性能晶圆制造至关重要。在CMP 材料中,抛光液和抛光垫价值占比最高,我们将对其分别介绍。本文首先对WebApr 15, 2018 抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,降低工件表面粗糙度,获得光亮、平整表面的加工方法。 主要是利用抛光工具和磨料颗粒等对工件表面进行的修饰加工。 抛光大致可分为以下几类: A:粗抛打磨: 车,磨,NC,火花机,线割 等工艺后的表面一般比 什么是抛光工艺,抛光可以分为几类? 知乎

国内硅溶胶生产企业汇总 李博士团队
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