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细粉加工设备(20-400目)

我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备,拥有多项国家专利,能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目,是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。

超细粉加工设备(400-3250目)

LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术,专注于400-3250目范围内超细粉磨加工,细度可调可控,突破超细粉加工产能瓶颈,是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。

粗粉加工设备(0-3MM)

兼具磨粉机和破碎机性能优势,产量高、破碎比大、成品率高,在粗粉加工方面成绩斐然。

硅石灰研磨机械厂家

2022-09-22T22:09:42+00:00
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  • 半导体材料之CMP抛光液 知乎

    WebCMP 全称为 Chemical Mechanical Polishing,即化学机械抛光。CMP技术是晶圆制造的必须流程之一,对高精度、高性能晶圆制造至关重要。在CMP 材料中,抛光液和抛光垫价值占比最高,我们将对其分别介绍。本文首先对WebApr 15, 2018  抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,降低工件表面粗糙度,获得光亮、平整表面的加工方法。 主要是利用抛光工具和磨料颗粒等对工件表面进行的修饰加工。 抛光大致可分为以下几类: A:粗抛打磨: 车,磨,NC,火花机,线割 等工艺后的表面一般比 什么是抛光工艺,抛光可以分为几类? 知乎

  • 国内硅溶胶生产企业汇总 李博士团队

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